Odkryj nowe możliwości z naszymi powłokami PVD. Wraz z nowym piecem do pokrywania, który pojawił się w naszej firmie, poszerzyliśmy naszą ofertę o ulepszone powłoki PVD. Wykorzystujemy hybrydową technologie parowania łukowego (ARC) oraz HiPIMS, dzięki czemu możemy zaoferować naszym Klientom powłoki o ulepszonych właściwościach. Chcesz dowiedzieć się więcej? Zapraszamy do lektury!

Fizyczne osadzanie z fazy gazowej (PVD) to proces powlekania cienkowarstwowego, w którym na powierzchni podłoża tworzone są wyjątkowo cienkie (od 1 do 10 µm) warstwy z czystego metalu, stopów metali lub ceramiki. Technologia ta opiera się na fizycznych zjawiskach, takich jak odparowywanie, rozpylanie katodowe lub jonizacja, które umożliwiają precyzyjne nanoszenie atomów, jonów lub cząsteczek materiału powłokowego.

Odkryj nowe możliwości z naszymi powłokami PVD. Wraz z nowym piecem do pokrywania, który pojawił się w naszej firmie, poszerzyliśmy naszą ofertę o ulepszone powłoki PVD. Wykorzystujemy hybrydową technologie parowania łukowego (ARC) oraz HiPIMS, dzięki czemu możemy zaoferować naszym Klientom powłoki o ulepszonych właściwościach. Chcesz dowiedzieć się więcej? Zapraszamy do lektury!

Fizyczne osadzanie z fazy gazowej (PVD) to proces powlekania cienkowarstwowego, w którym na powierzchni podłoża tworzone są wyjątkowo cienkie (od 1 do 10 µm) warstwy z czystego metalu, stopów metali lub ceramiki. Technologia ta opiera się na fizycznych zjawiskach, takich jak odparowywanie, rozpylanie katodowe lub jonizacja, które umożliwiają precyzyjne nanoszenie atomów, jonów lub cząsteczek materiału powłokowego.

Odkryj nowe możliwości z naszymi powłokami PVD. Wraz z nowym piecem do pokrywania, który pojawił się w naszej firmie, poszerzyliśmy naszą ofertę o ulepszone powłoki PVD. Wykorzystujemy hybrydową technologie parowania łukowego (ARC) oraz HiPIMS, dzięki czemu możemy zaoferować naszym Klientom powłoki o ulepszonych właściwościach. Chcesz dowiedzieć się więcej? Zapraszamy do lektury!

Fizyczne osadzanie z fazy gazowej (PVD) to proces powlekania cienkowarstwowego, w którym na powierzchni podłoża tworzone są wyjątkowo cienkie (od 1 do 10 µm) warstwy z czystego metalu, stopów metali lub ceramiki. Technologia ta opiera się na fizycznych zjawiskach, takich jak odparowywanie, rozpylanie katodowe lub jonizacja, które umożliwiają precyzyjne nanoszenie atomów, jonów lub cząsteczek materiału powłokowego.