Powłoki PVD i TiB2

Fizyczne osadzanie z fazy gazowej (PVD) to proces powlekania cienkowarstwowego, w którym na powierzchni podłoża tworzone są wyjątkowo cienkie (od 1 do 10 µm) warstwy z czystego metalu, stopów metali lub ceramiki. Technologia ta opiera się na fizycznych zjawiskach, takich jak odparowywanie, rozpylanie katodowe lub jonizacja, które umożliwiają precyzyjne nanoszenie atomów, jonów lub cząsteczek materiału powłokowego.